A indústria dos semicondutores deu mais um passo importante para acelerar a velocidade de processamento. A Extreme Ultraviolet LLC (EUV LLC), um consórcio que conjuga esforços de investigação de grandes fabricantes, desenvolveu um novo processo de fabrico litográfico usando ultra-violetas intensos (EUV), que poderá levar, a médio prazo, à produção de chips capazes de atingir 10GHz.
O EUV foi testado pela primeira vez e é a peça chave de um novo tipo de fabrico de processadores que pode vir a revolucionar toda a indústria.
O consorcio EUV LLC vai levar os próximos meses a testar a máquina com esta tecnologia, fazendo as primeiras experiências de fabrico de chips através da impressão de imagens em placas de silício de forma a produzir processadores.
O conceito desta técnica está muito próximo da revelação de fotografias, pois a imagem é projectada numa placa de silício e depois revelada, obtendo o processador após a remoção de resíduos.
O alcance desta técnica poderá levar a transístores com menos de 100 nanómetros (100X10 -9 metros). Sem esta nova técnica os grandes fabricantes como a AMD e a Intel não poderão construir processadores mais rápidos para além de 2004 ou 2005.
O EUV LLC é fruto da associação de pesquisas dos laboratórios Lawrence Livermore , Sandia National Laboratories , e de fabricantes como a Intel , AMD e Infineon Technologies.
