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1 Mar 2000 por José Borregana  
Avanço no fabrico de processadores

Um processo de última geração no fabrico de semicondutores, desenvolvido pela IBM, vai permitir que os chips sejam ainda mais pequenos.

 

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Técnicos da IBM vão revelar ainda esta semana quais as características de um novo processo revolucionário de fabrico de chips, que usa feixes de electrões.

Este método de fabrico, conhecido como Prevail, que permite a ''impressão'' de circuitos em silicone através da emissão de feixes de electrões em larga escala, foi desenvolvido em cooperação com a Nikon. Esta nova tecnologia vai tornar possível o aumento da precisão na ''impressão'', ''encolhendo'' substancialmente os circuitos relativamente ao método de projecção de feixes de luz actualmente usado.

Os sistema de feixes de electrões no fabrico de semicondutores era já alvo de pesquisa pela indústria electrónica há décadas, com alguns avanços, mas sem ser economicamente viável no fabrico em larga escala. A diminuição dos feixes de luz no processo de ''impressão'' estava muito próxima do limite técnico, exigindo investimentos proibitivos, e sendo assim este novo método vai permitir que nas próximas décadas os processadores continuem a diminuir de tamanho e a aumentar a velocidade de processamento.


 

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